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Helium-charged La-Ni-Al thin films deposited by magnetron sputtering 期刊论文
Fusion Science and Technology, 2005, 卷号: 48, 期号: 1, 页码: 534-538
作者:  L. Q. Shi;  D. M. Chen;  S. L. Xu;  C. Z. Liu;  W. L. Hao;  Z. Y. Zhou
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