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Structure and tribology property of carbon nitride films deposited by MW-ECR plasma enhanced unbalanced magnetron sputtering 期刊论文
Plasma Science & Technology, 2006, 卷号: 8, 期号: 4, 页码: 425-428
作者:  P. Gao;  J. Xu;  Y. Piao;  W. Y. Ding;  X. L. Deng;  C. Dong
收藏  |  浏览/下载：119/0  |  提交时间：2012/04/13
Carbon Nitride  Tribological Property  Unbalanced Magnetron Sputtering  Cyclotron-resonance Plasma  Raman-spectroscopy  Thin-films  C-n  Nitrogen