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沉积时间对磁控反应溅射制备TiO_2薄膜性能的影响 期刊论文
功能材料, 2008, 期号: 11, 页码: 1785-1788
作者:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
收藏  |  浏览/下载：101/0  |  提交时间：2012/04/12
磁控反应溅射  Tio2薄膜  光催化  沉积时间  
沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响 期刊论文
功能材料, 2008, 卷号: 39.0, 期号: 011, 页码: 1785-1788
作者:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
收藏  |  浏览/下载：103/0  |  提交时间：2021/02/02
磁控反应溅射  TiO2薄膜  光催化  沉积时间  
沉积时间对磁控反应溅射制备TiO2薄膜性能的影响 期刊论文
功能材料, 2008, 卷号: 39.0, 期号: 011, 页码: 1785-1788
作者:  张文杰;  朱圣龙;  李瑛;  王福会;  何红波
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磁控反应溅射  TiO2薄膜  光催化  沉积时间  
磁控溅射Fe-N薄膜的微结构研究 期刊论文
电子显微学报, 2002, 期号: 5, 页码: 645-646
作者:  詹倩,贺连龙,李斗星
收藏  |  浏览/下载：62/0  |  提交时间：2012/04/12
Fe-n薄膜:7792  微结构表征:4484  溅射:1988  微观结构:1642  高分辨像:1585  沉积时间:1505  材料科学:1481  中国科学院:1384  薄膜厚度:1346  金属研究所:1344  
碳纤维上碳化硅涂层的工艺研究 期刊论文
碳素, 1991, 期号: 1, 页码: 16-21
作者:  郑国斌,沈祖洪,张名大
收藏  |  浏览/下载：101/0  |  提交时间：2012/04/12
碳化硅涂层:7202  碳纤维:5042  涂层厚度:3475  Sici:1825  沉积反应:1380  工艺研究:1377  沉积时间:1275  反应管:847  氯甲基硅烷:766  衍射峰:743