| EB-PVD在热障涂层中的研究及应用 |
| 王栋; 巴德纯; 杜广煜; 陈小龙; 宫骏
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| 2013-09-25
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| 发表期刊 | 真空
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| 期号 | 5页码:6-8 |
| 摘要 | EB-PVD是以高能电子束为热源的一种蒸发镀膜技术。在真空的环境下,高能离子束轰击靶材(金属,陶瓷等),使其融化、升华、蒸发,最后沉积在基片上。由于EB-PVD技术具有蒸发和沉积速率高,涂层致密,化学成分易于精确控制,可得到柱状晶组织,无污染,热效率高,基片与薄膜之间有较强的结合力等诸多优点,已被广泛应用于国防和民用领域。本文介绍了EB-PVD技术在制备热障涂层时优势、不足与改进措施。 |
| 部门归属 | 东北大学机械工程与自动化学院
; 中国科学院金属研究所
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| 关键词 | 电子束物理气相沉积
热障涂层
工艺特点
改进
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| 语种 | 中文
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/72312
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
王栋,巴德纯,杜广煜,等. EB-PVD在热障涂层中的研究及应用[J]. 真空,2013(5):6-8.
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| APA |
王栋,巴德纯,杜广煜,陈小龙,&宫骏.(2013).EB-PVD在热障涂层中的研究及应用.真空(5),6-8.
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| MLA |
王栋,et al."EB-PVD在热障涂层中的研究及应用".真空 .5(2013):6-8.
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