| 一种在大型异形部件表面涂覆低应力非金属膜的方法 | |
| 邹健梧 and 周兴泰 | |
| 1997-07-02 | |
| 专利权人 | 中国科学院金属研究所 |
| 公开日期 | 1997-07-02 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 摘要 | 一种在大型导电工件表面涂覆低应力非金属膜的方法,系采用直流等离子体增强CVD技术,其特征在于：将待涂覆的工件直接与以直流高压为主的电源阴极相接。本发明可在大尺寸异形工件表面同时均匀地涂覆内应力较低、膜厚均匀及与基材粘结较好的类金刚石碳膜,使其适应各种实际应用的需要。 |
| 语种 | 中文 |
| 专利状态 | 公开 |
| 申请号 | CN1153226 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/67815 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 邹健梧 and 周兴泰. 一种在大型异形部件表面涂覆低应力非金属膜的方法[P]. 1997-07-02. |
| 条目包含的文件 | 条目无相关文件。 | |||||
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