| 一种高强度亚微米孔分离膜及其制备方法和应用 |
| 于志明
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| 2009-12-30
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| 专利权人 | 中国科学院金属研究所
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| 公开日期 | 2009-12-30
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 发明专利
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| 摘要 | 本发明涉及分离膜制备技术,具体为一种高强度亚微米孔分离膜及其制备方 法和应用,解决液体、气体等分离系统中所用分离膜强度低、使用寿命短的问题, 可应用到工作温度低于130℃的水处理、气体净化等液体或气体的分离系统中。 本发明利用超高分子量聚乙烯为原材料通过烧结法制备高强度亚微米孔分离膜。 其制备方法：(1)超高分子量聚乙烯粉体的分筛；(2)支撑体的烧结；(3)整体 分离膜的制备。整体分离膜由芯部支撑体和表面分离膜组成,其支撑体厚度在9-20 毫米,整体分离膜厚度在15-30毫米,分离膜滤孔直径在0.15-0.06微米范围内可 调。本发明可以... |
| 语种 | 中文
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| 专利状态 | 公开
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| 申请号 | CN101612532
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/66864
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
于志明. 一种高强度亚微米孔分离膜及其制备方法和应用[P]. 2009-12-30.
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