| 磁控反应溅射TiO_2薄膜的实验研究 |
| 常学森; 巴德纯; 闻立时; 刘坤; 李飞; 张健
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| 2006-07-25
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| 发表期刊 | 真空
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| 期号 | 4页码:13-15 |
| 摘要 | 应用直流和中频交流程序自动控制磁控溅射设备,利用金属T i靶、纯F e靶制备出了有一定厚度的质量较好的不同氧流量的F e掺杂T iO2薄膜,T iO2薄膜被沉积在玻璃基底上。薄膜的制备用程序控制。通过在T iO2薄膜中形成一定的结构,并利用各种分析测试手段对其性能进行了测试,初步探讨了不同氧流量对T iO2薄膜的影响。实验表明程序自动控制不同氧流量F e掺杂T iO2薄膜的特性有了很大改变。 |
| 部门归属 | 东北大学真空与流体工程研究中心,东北大学真空与流体工程研究中心,中国科学院金属研究所,东北大学真空与流体工程研究中心,东北大学真空与流体工程研究中心,东北大学真空与流体工程研究中心 辽宁沈阳110004,辽宁沈阳110004,辽宁沈阳110015,辽宁沈阳110004,辽宁沈阳110004,辽宁沈阳110004
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| 关键词 | 纳米二氧化钛薄膜
氧流量
亲水性
磁控溅射
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/25004
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
常学森,巴德纯,闻立时,等. 磁控反应溅射TiO_2薄膜的实验研究[J]. 真空,2006(4):13-15.
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| APA |
常学森,巴德纯,闻立时,刘坤,李飞,&张健.(2006).磁控反应溅射TiO_2薄膜的实验研究.真空(4),13-15.
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| MLA |
常学森,et al."磁控反应溅射TiO_2薄膜的实验研究".真空 .4(2006):13-15.
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