| 偏压和氮分压对TiN膜层结构和膜/基体系性能的影响 |
| 杨洪刚; 李曙; 张荣禄
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| 2009-04-15
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| 发表期刊 | 中国表面工程
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| 期号 | 2页码:20-25 |
| 摘要 | 采用多弧离子镀工艺在钛合金或低碳钢基材上制备TiN薄膜,研究了不同偏压及不同氮分压下制备的薄膜相结构、残余应力、膜/基体系硬度、膜/基结合及其摩擦磨损行为。结果表明:偏压影响TiN晶粒的择优取向,偏压绝对值越大则薄膜内部的残余应力也越大;偏压过高或过低都会降低薄膜与基材之间的结合强度,从而影响其摩擦学性能。氮分压上升,TiN熔滴粒度变大,Ti2N相减少,导致薄膜硬度提高;由过高或过低氮分压制备的膜/基体系在划痕试验中测得的临界载荷均较小;随着氮分压的增加,在试验范围内样品的摩擦因数下降但耐磨性并未获得预期的提高。 |
| 部门归属 | 中国科学院金属研究所;
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| 关键词 | 微纳米材料
摩擦磨损
润滑
自修复
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/24138
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
杨洪刚,李曙,张荣禄. 偏压和氮分压对TiN膜层结构和膜/基体系性能的影响[J]. 中国表面工程,2009(2):20-25.
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| APA |
杨洪刚,李曙,&张荣禄.(2009).偏压和氮分压对TiN膜层结构和膜/基体系性能的影响.中国表面工程(2),20-25.
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| MLA |
杨洪刚,et al."偏压和氮分压对TiN膜层结构和膜/基体系性能的影响".中国表面工程 .2(2009):20-25.
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