| 混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO_2光催化剂薄膜 |
| 张文杰; 李汝愿; 李瑛; 朱圣龙; 王福会
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| 2010-05-15
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| 发表期刊 | 真空科学与技术学报
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| 期号 | 3页码:288-292 |
| 摘要 | 采用直流磁控反应混合靶共溅射的方法,在玻璃基体上制备出了Fe掺杂的TiO2膜,优化了沉积条件以制备出均匀透明的TiO2膜。通过调整固定在Ti靶上的Fe片面积可以控制膜中Fe的浓度。随着Fe浓度的增加,膜的表面形貌从平整变得粗糙。Fe含量低的膜为锐钛矿晶体结构,在Fe含量高的膜中出现了Fe的氧化物。在纯TiO2膜中钛以Ti4+的形式存在,而在含Fe的膜中钛的氧化态下降,出现了混合价态。Fe的存在导致膜的光谱吸收边沿向可见光谱方向移动。Fe掺杂浓度低的膜比纯TiO2膜表现出了更强的光催化活性。另一方面,过多Fe的掺杂导致TiO2膜的光催化活性快速下降。 |
| 部门归属 | 沈阳理工大学环境与化学工程学院;中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室;
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| 关键词 | Tio2
光催化
磁控溅射
Fe掺杂
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/23807
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张文杰,李汝愿,李瑛,等. 混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO_2光催化剂薄膜[J]. 真空科学与技术学报,2010(3):288-292.
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| APA |
张文杰,李汝愿,李瑛,朱圣龙,&王福会.(2010).混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO_2光催化剂薄膜.真空科学与技术学报(3),288-292.
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| MLA |
张文杰,et al."混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO_2光催化剂薄膜".真空科学与技术学报 .3(2010):288-292.
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