| Si3N4／SiC纳米复相陶瓷研究进展 | |
| 陈远志; 梁勇 | |
| 1999 | |
| 发表期刊 | 中国陶瓷
 |
| ISSN | 1001-9642 |
| 卷号 | 35.0期号:002页码:34-36 |
| 摘要 | 本文综述了Ｓｉ３Ｎ４／ＳｉＣ纳米复相陶瓷的研究进展，较详细地介绍了纳米粉体的制备工艺及热处理研究、复相陶瓷的制备工艺、力学性能、微观结构及增韧强化机理。 |
| 关键词 | 纳米粉体 氮化硅 复合陶瓷 碳化硅 |
| 收录类别 | CSCD |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:851611 |
| 引用统计 | |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/153322 |
| 专题 | 中国科学院金属研究所 |
| 作者单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈远志,梁勇. Si3N4／SiC纳米复相陶瓷研究进展[J]. 中国陶瓷,1999,35.0(002):34-36. |
| APA | 陈远志,&梁勇.(1999).Si3N4／SiC纳米复相陶瓷研究进展.中国陶瓷,35.0(002),34-36. |
| MLA | 陈远志,et al."Si3N4／SiC纳米复相陶瓷研究进展".中国陶瓷 35.0.002(1999):34-36. |
| 条目包含的文件 | 条目无相关文件。 | |||||
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