| 电脉冲下TiC颗粒增强Ni—Cr合金中位错组态的变化 |
| 张伟; 隋曼龄; 周亦胄; 李斗星
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| 2001
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| 发表期刊 | 电子显微学报
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| ISSN | 1000-6281
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| 卷号 | 20.0期号:003页码:199-202 |
| 摘要 | TiC颗粒增强Ni80Cr20合金经电脉冲处理后，位错组态发生规整化，平直化排列，位错堆积形成位错墙。这表明电脉冲处理具有类似于退火的回复作用，此外，电脉冲处理还可以起到强化TiC颗粒增强相与基体之间结合的作用。 |
| 关键词 | 电脉冲处理
位错组态
颗粒增强
TiC颗粒增强Ni80Cr20合金
TEM
微观机制
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| 收录类别 | CSCD
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| 语种 | 中文
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| CSCD记录号 | CSCD:581218
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| 引用统计 |
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| 文献类型 | 期刊论文
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| 条目标识符 | http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/146034
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| 专题 | 中国科学院金属研究所
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| 作者单位 | 中国科学院金属研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
张伟,隋曼龄,周亦胄,等. 电脉冲下TiC颗粒增强Ni—Cr合金中位错组态的变化[J]. 电子显微学报,2001,20.0(003):199-202.
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| APA |
张伟,隋曼龄,周亦胄,&李斗星.(2001).电脉冲下TiC颗粒增强Ni—Cr合金中位错组态的变化.电子显微学报,20.0(003),199-202.
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| MLA |
张伟,et al."电脉冲下TiC颗粒增强Ni—Cr合金中位错组态的变化".电子显微学报 20.0.003(2001):199-202.
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